ਗੋਲ ਮਿਰਰ ਮੇਕਅਪ ਮਿਰਰ ਬਾਥਰੂਮ ਬੈੱਡਰੂਮ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਸ਼ੀਸ਼ਾ 0446

ਮਿਰਰ ਨਿਰਮਾਣ

ਕੱਚ ਦੀ ਰਿਫਲੈਕਟਿਵ ਇਮੇਜਿੰਗ ਸਤਹ ਦੀ ਸਤਹ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਸਿਲਵਰ ਪਲੇਟਿੰਗ ਅਤੇ ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਦੁਆਰਾ ਸੰਸਾਧਿਤ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਵਰਤਿਆ ਜਾਣ ਵਾਲਾ ਤਰੀਕਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਸਿਲਵਰ ਪਲੇਟਿੰਗ ਹੈ। ਇਹ ਵਿਧੀ ਪਾਣੀ ਵਿੱਚ ਸਿਲਵਰ ਨਾਈਟ੍ਰੇਟ ਨੂੰ ਘੋਲਣ, ਅਮੋਨੀਆ ਪਾਣੀ ਅਤੇ ਸੋਡੀਅਮ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਘੋਲ ਨੂੰ ਮਿਲਾ ਕੇ ਸਿਲਵਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਡ ਅਮੋਨੀਆ ਡਬਲ ਨਮਕ ਨੂੰ ਪਤਲਾ ਕਰਕੇ ਸਿਲਵਰ ਪਲੇਟਿੰਗ ਘੋਲ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਹੈ। ਉਲਟਾ ਚੀਨੀ ਜਾਂ ਫਾਰਮਾਲਡੀਹਾਈਡ, ਪੋਟਾਸ਼ੀਅਮ ਸੋਡੀਅਮ ਟਾਰਟਰੇਟ ਘੋਲ ਨੂੰ ਤਰਲ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਵਰਤੋ। ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਨੂੰ ਕੱਟਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਕਿਨਾਰੇ (ਜੇਕਰ ਲੋੜ ਹੋਵੇ ਤਾਂ ਪੀਸ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰੋ), ਸਤਹ ਨੂੰ ਸਾਫ਼ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਪਤਲੇ ਸਟੈਨਸ ਕਲੋਰਾਈਡ ਘੋਲ ਨਾਲ ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਫਿਰ ਸਾਫ਼ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਸਿਲਵਰ ਪਲੇਟਿੰਗ ਘੋਲ ਨਾਲ ਮਿਲਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਸਤਹ ਨੂੰ ਤੁਰੰਤ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਨ ਲਈ, ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਸਤਹ ਨੂੰ ਧੋਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਧੋਵੋ। ਗਠਨ, ਫਿਰ ਤਾਂਬੇ ਦੀ ਪਲੇਟਿੰਗ ਅਤੇ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪੇਂਟ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ. ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਦਾ ਤਰੀਕਾ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਨੂੰ ਸਾਫ਼ ਕਰਨਾ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਨੂੰ 0.1-10-4Pa ਦੀ ਵੈਕਿਊਮ ਡਿਗਰੀ ਵਾਲੇ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਯੰਤਰ ਵਿੱਚ ਰੱਖਣਾ ਹੈ। ਸਪਿਰਲ ਟੰਗਸਟਨ ਤਾਰ ਊਰਜਾਵਾਨ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਉਤਪੰਨ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਕਾਰਨ ਸਪਿਰਲ ਵਿੱਚ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਇੱਕ ਗੈਸੀ ਅਵਸਥਾ ਵਿੱਚ ਭਾਫ ਬਣ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਟੰਗਸਟਨ ਵਾਇਰ ਹੀਟਿੰਗ ਦੀ ਬਜਾਏ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨ ਗਨ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਵੀ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਵੈਕਿਊਮ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਵਿਧੀ ਨਿਰਵਿਘਨ ਧਾਤ ਦੀ ਸਤਹ ਨੂੰ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਸਤਹ ਵਿੱਚ ਵੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।